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簡要描述：LSX-213nm激光剝蝕 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)使用的高性能硬件及高精度光學部件，帶來效果優(yōu)異的光學分辨率，達到清晰觀察效果的同時并具有寬泛的視野，配備高質量、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng)，確保在極大放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。
產(chǎn)品型號：LSX-213廠商性質：代理商更新時間：2025-01-23訪 問 量： 3431產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線源于全球行業(yè)之一的Photon Machines團隊（縮寫PMI），其第一代產(chǎn)品于1995年問世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設計、研發(fā)、制造及應用經(jīng)驗，產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統(tǒng)（與ICP-MS聯(lián)用），及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)（與惰性氣體同位素質譜聯(lián)用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統(tǒng)的功能，足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)產(chǎn)品特點：
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)內(nèi)置性能良好密閉的泵浦燈和MIL-SPEC標準設計制造的激光源，給操作者帶來非常穩(wěn)定的激光能量和低維護成本，配備了高精度獨立減震光學平臺后，系統(tǒng)能夠在多種苛刻環(huán)境中進行多種樣品分析。
LSX-213 G2+ 使用的高性能硬件及高精度光學部件，帶來效果優(yōu)異的光學分辨率，達到清晰觀察效果的同時并具有寬泛的視野，配備高質量、多陣列和亮度可調(diào)的透射照明和反射照明系統(tǒng)，確保在極大放大倍數(shù)下也能清晰觀察樣品。
LSX-213 G2+ 采用開放式樣品池位置設計，能夠兼容多種樣品池，并支持用戶定制樣品池。軟件方面可以控制內(nèi)置光圈自動切換，剝蝕斑點直徑范圍4-200μm，系統(tǒng)通過與ICP通訊實時調(diào)整能量、斑點大小和掃描速度等參數(shù)。 簡潔實用的結構設計，不僅提供了穩(wěn)定的性能，同時具有良好的易維護性，為您提供便利高效的工作過程，實現(xiàn)定點——剝蝕——分析的三步目標。
213nm激光剝蝕,固態(tài)激光剝蝕
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)技術參數(shù)：
五倍頻213nm Q-switched控制的Nd:YAG固態(tài)激光源，脈沖能量≥6mJ，脈沖寬度≤4ns
脈沖穩(wěn)定性＜3%
平頂激光技術，達到良好的剝蝕坑
激光光路和觀察光路獨立設計，防止機械震動干擾和熱源干擾，具有非常高的穩(wěn)定性
脈沖頻率1-20Hz可調(diào)，輸出能量1-100%可調(diào)
剝蝕斑點范圍4-200μm
密閉且易維護的激光源設計
計算機控制，連續(xù)調(diào)節(jié)的等焦面共焦點設計，顯微光學放大倍數(shù)15-60x
觀察視野>6mm（光學分辨率＜2μm）
高強度LED陣列照明系統(tǒng)
電動旋轉偏振系統(tǒng)
開放式樣品池位置設計，靈活性高
多種樣品池可選，兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
XY平臺步進分辨率0.16μm
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)應用領域：
環(huán)境樣品分析，物證樣品分析，農(nóng)產(chǎn)品樣品分析，同位素定性分析，生物樣品分析，大體積進樣定量分析，地質樣品分析，樣品缺陷分析，元素分布圖繪制分析，透明和半透明樣品分析，深度剝蝕分析。
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